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李国成把光刻胶涂抹在氧化后的晶圆上，用一个局部真空的吸盘固定住晶圆中心，提起来放入手心轻轻转动，利用离心力把光刻胶均匀地布满整个平面。

完成这一步操作后，李国成暗暗决定，实验完成一定要制造一个甩胶机。还用手转动甩胶，太LOW了。

但是在外人看来，李国成的每一个动作都是非常自信，驾轻就熟，隐有韵律。这可能就是长期修改的好处吧，不经意间就装了个大X。

由于涂抹的光刻胶太薄，静置十几分钟就会干透。

趁着这个空挡，李国成走到光刻机旁边，在底座托盘上放上一片同样规格的晶圆，再一次调整焦距到最佳状态，然后转动紫光部分移动手柄，模拟紫外光刻印一个一个晶圆方格，确定最佳走行距离和最为经济的光刻距离。

完成不知第几次的模拟后，各种参数记在心田。

来到刚才晶圆前，放出念力，检查光刻胶已经干透。用带着橡胶手套的双手捧起晶圆，放入托盘中，四周固定。

启动紫外光，掩膜版上的图形清晰地刻印在指定的方格内，静等9分钟后，在念力中，紫光照射中的光刻胶化学反应完成，并凝固。这样就能保证刻蚀时，留存光刻胶覆盖的晶圆部分。

关闭紫光，拿出晶圆，用放大镜观察。其实这一步是做给外边人看的，只是个样子。实际上在念力的探查下，已经确定光刻机和光刻胶都达到了设计预期。

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