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生产线正在安装调试，李国成每天都会去视察安装进度和质量。

现在李国成必须要解决的是，芯片制造过程中的成品率。以罗宾汉的操作方式，成品率能够达到50%都是谢天谢地了。

“董事长先生，我们大罗宾汉国的设备非常先进，成品率一直控制在40%以上，是当前最好的指标”，调试工程师喝多的时候，就会炫耀他们的技术。

李国成懒得吐槽，他现在才知道现在的晶体管成本为什么那么高了。

光刻机技术有以下分类：

接触式曝光（ContactPrinting）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

接近式曝光（ProximityPrinting）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。

投影式曝光（ProjectionPrinting）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。

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